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不可忽视的是，从技术角度看，晶圆级封装（WLP）直接在整片晶圆上进行封装，需要光刻技术定义布线层，精度要求达到纳米级；Chiplet 封装技术中，不同芯粒的“互连”需要超细线路，必须用光刻技术实现 “凸点”“ 重布线层” 的高精度制造；3D IC 封装技术中，芯片垂直堆叠后，通孔（TSV）的加工也需要光刻辅助定位。
综上所述，As Trump s领域的发展前景值得期待。无论是从政策导向还是市场需求来看，都呈现出积极向好的态势。建议相关从业者和关注者持续跟踪最新动态，把握发展机遇。